In this work, nickel sulfide thin films were synthesized via the SILAR method using different nickel salts as precursors. The influence of the precursor salt on the morphology and electrochemical performance of the layers was systematically investigated. SEM analysis revealed that NiSx films prepared from nickel chloride exhibited the most uniform and crack-free morphology. Electrochemical measurements demonstrated a strong correlation between film quality and capacitive behaviour. Notably, the NiSx electrode synthesized using nickel chloride achieved a maximum specific capacitance of 1902 F/g at a current density of 1 A/g. These findings highlight the critical role of precursor selection in optimizing the structural and electrochemical properties of nickel sulfide electrodes for energy storage applications.
В данной работе тонкие пленки сульфида никеля были синтезированы методом SILAR с использованием различных солей никеля в качестве прекурсоров. Было систематически исследовано влияние соли-прекурсора на морфологию и электрохимические характеристики слоев. Анализ СЭМ показал, что пленки NiSx, полученные из хлорида никеля, демонстрируют наиболее однородную и свободную от трещин морфологию. Электрохимические измерения показали корреляцию между морфологией пленки и емкостными характеристиками. В частности, электрод на основе NiSx, синтезированный с использованием раствора соли хлорида никеля, показал максимальную удельную емкость, равную 1902 Ф/г при плотности тока 1 А/г. Полученные результаты подчеркивают решающую роль выбора прекурсора в оптимизации структурных и электрохимических свойств электродов на основе сульфида никеля для применения в устройствах хранения энергии.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.